熱門關鍵詞 : 制藥純化水設備 制劑純化水設備 醫療器械清洗純化水設備 日用化妝品純化水設備 純化水工程案例
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怎么選擇純化水設備系統清洗液?
常規清洗液配方提供的清洗溶液是將一定重量的化學藥品加入到100加侖(379升)的潔凈水中(RO產品水或不含游離氯的水)。溶液是按所用化學藥品和水量的比例配制的。溶劑是RO產品水或去離子水,無游離氯和硬度。清洗液進入膜元件之前,要求徹底混和均勻,并按照目標值調pH值且按目標溫度值穩定溫度。常規的清洗方法基于化學清洗溶液循環清洗一小時和一種任選的化學藥劑浸泡一小時的操作而設定的。
常規清洗液配方(以100加侖,即379升為基準)
清洗液主要組份有藥劑量、清洗液、pH值、最高清洗液溫度
1、氫氧化鈉(100%粉末) 或(50%液體)
0.83磅(0.38公斤) 0.13加侖(0.5升)
緩慢加入氫氧化鈉調節pH至11.5,調低pH時用鹽酸
30℃
2、檸檬酸(100%粉末)
17.0磅(7.7公斤)
用氨水調節pH至3.0~4.0
40℃
3、鹽酸(HCl)(密度22波美度或濃度36%)
0.47加侖(1.8升)
緩慢加入鹽酸調節pH至2.5,調高pH用氫氧化鈉
35℃
常規清洗液介紹
溶液1
0.5%(W)鹽酸低pH清洗液,主要用于去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等),金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等),及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些,因為鹽酸(HCl)是強酸。
溶液2
0.1%(W)氫氧化鈉高pH清洗液。用于去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的堿性清洗液。
溶液3
2.0%(W)檸檬酸(C6H8O7)的低pH清洗液。用于去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)、金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。
以上就是小編為大家介紹的關于純化水設備系統清洗液的選擇介紹,對于純化水設備小編還建議大家了解一下純化水設備系統化學清洗方法,以便更好地了解純化水設備的使用。